Home  |  Contact  |  Sitemap  |  中文  |  CAS
 
About Us
News
Research
People
International Cooperation
Education & Training
Societies & Publications
Papers
Industrial System
Sitemap
Contact Us
 
东京工业大学.jpg
 
Location: Home > Papers

Two Micro Thermal Shear Stress Sensors: Surface Micromachined and Bulk-bonding Micromachined
Author:
ArticleSource:
Update time: 2009-09-04
Close
Text Size: A A A
Print

  Two Micro Thermal Shear Stress Sensors: Surface Micromachined and Bulk-bonding Micromachined 

  Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 7(4),1 (Oct–Dec 2008) 

  Authors:Shali Shi,Liang Yi,Dapeng Chen,Yi Ou,Yupeng Jing,Tianchun Ye 

  Abstract. 

  We describe two fabricated microthermal shear stress sensors by antiadhesion surface technology and anodic bulk-bonding 

  technology. 

  Two sensors are based on thermal transfer principles with adiabatic structures. The thermal sensor element is a titanium- 

  platinum alloy resistor sputtered on the top of a low pressure chemical vapor deposited (LPCVD) silicon nitride diaphragm with 

  an adiabatic vacuum cavity underneath. The surface micromachined thermal shear stress sensor uses microbumps on the silicon 

  substrate in the sacrificial layer technology to prevent the silicon nitride diaphragm’s stiction to the substrate. 

  Microbumps formed by isotropic silicon etching in HNA (the system HF, HNO3, and HC2H3O2)are arrayed in several points on the 

  silicon substrate with distances of 147 um in the (200*250)-um2*1.5-um vacuum cavity. This cavity is formed by LPCVD silicon 

  nitride film sealing with 30-Pa vacuum degree. The anodic bulk-bonding micro-machined thermal shear stress sensor uses bulk 

  silicon substrate etching and anodic bonding to form the (200*250)-um2*400-um high aspect ratio cavity with 5*10-2 Pa vacuum 

  degree. The titanium platinum alloy resistor, (200*250)-um2*0.2 um, sputtered on the top of the 1.5-um-thick LPCVD silicon 

  nitride diaphragm with this bonding chamber, has a temperature coefficient of resistance (TCR) value of 0.33%/□. According to 

  the comparison of the adiabatic characteristics among three cases—a titanium platinum alloy resistor located over the high 

  aspect ratio 5*10-2 Pa vacuum cavity, over the 30-Pa vacuum cavity, and directly on top of the substrate—the first case has 

  the best adiabatic characteristic: the titanium platinum alloy resistor located over the 5*10-2-Pa vacuum cavity has the 

  maximum thermal resistance of 5362 °C/W. Besides the sensor sensitivity performances, it has a comparatively short time 

  constant with value of 0.1 ms under the constant current (CC)mode driving circuit. Accordingly, the bulk-bonding micro- 

  machined sensor is selected as the winner for output calibration with a typical sensitivity of 15.63 V/kPa under CC mode. 

COPYRIGHT (C) 2007 Microelectronice of Chinese Academy of Sciences. ALL RIGHT RESSRVED